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影响离子喷涂技术的涂层厚度均匀性的潜在因素及应对措施


  • 影响离子喷涂技术的涂层厚度均匀性的潜在因素及应对措施
    1. 影响离子喷涂技术的涂层厚度均匀性的潜在因素及应对措施

影响离子喷涂技术的涂层厚度均匀性的潜在因素及应对措施

1. 主要影响因素基体表面形貌:凹凸不平的表面可能导致粒子沉积量差异,例如沟槽或拐角处易出现涂层堆积;喷涂参数波动:气体流量、电压电流的不稳定会导致粒子喷射能量变化,影响沉积速率;环境气流干

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1. 主要影响因素

基体表面形貌:凹凸不平的表面可能导致粒子沉积量差异,例如沟槽或拐角处易出现涂层堆积;

喷涂参数波动:气体流量、电压电流的不稳定会导致粒子喷射能量变化,影响沉积速率;

环境气流干扰:未封闭的喷涂环境中,外界气流可能改变粒子飞行轨迹。

2. 应对措施

预处理基体:通过喷砂、抛光等方式使表面粗糙度≤Ra1.6μm,减少形貌对沉积的影响;

自动化控制系统:采用 PLC(可编程逻辑控制器)实时监测并调整喷涂参数,确保稳定性;

封闭喷涂舱:在真空或惰性气体环境中喷涂,避免外界气流干扰(如真空离子喷涂技术)。

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影响离子喷涂技术的涂层厚度均匀性的潜在因素及应对措施 2025-6-28 本文被阅读 67 次
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