1. 主要影响因素

基体表面形貌：凹凸不平的表面可能导致粒子沉积量差异，例如沟槽或拐角处易出现涂层堆积；

喷涂参数波动：气体流量、电压电流的不稳定会导致粒子喷射能量变化，影响沉积速率；

环境气流干扰：未封闭的喷涂环境中，外界气流可能改变粒子飞行轨迹。

2. 应对措施

预处理基体：通过喷砂、抛光等方式使表面粗糙度≤Ra1.6μm，减少形貌对沉积的影响；

自动化控制系统：采用 PLC（可编程逻辑控制器）实时监测并调整喷涂参数，确保稳定性；

封闭喷涂舱：在真空或惰性气体环境中喷涂，避免外界气流干扰（如真空离子喷涂技术）。

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